电解抛光是什么原理？
影响电解抛光效果的主要因素：一、电解抛光电解液，电解液选用的合理与否是直接影响电解抛光效果的最基本因素之一。
1扩散系数小，黏度大。
2易与溶解下来的金属离子形成扩散速度更小的多核聚合配合物。本身是一种黏膜稠的酸。2、电解抛光电流密度和电压，通常应控制在极限扩散电流控制区，中阳极极化曲线的平坦区。
1低于此区的电流密度时，表面会出现腐蚀。
2高于此电流密度区时，因有氧气析出，表面易出现气孔、麻点或条纹。
3平坦区不是固定不变的，它会随温度、配位剂的浓度和添加剂的种类而变化。三、温度，温度对阳极极化曲线的影响曲线。
1电解液温度升高，极限扩散电流逐渐增大，当温度高于90度时，表面抛光的起始电流密度大，阳极铜片的溶解速度过快，因而铜片表面易生成点状或条状腐蚀。
2当电解液温度低于60度时，传质过程慢，抛光的起始电流密度太低，阳极铜片的溶解速度慢，溶解下来的离子不能很快地扩散开来，容易在阳极表面形成CU和HEDP的多核配合物，使用权铜片表面出现沉淀物膜槿麻点。四、抛光时间。
1被抛光零件的材质及其表面的预处理程度。
2阳、阴极间的距离。
3电解液的抛光性能及温度。
4电抛光过程使用的阳极电流密度的大小及槽电压的高低。4②M④1.⑶
电解抛光是通过对电流密度，溶液粘度几温度的控制，使金属在电解液中选择性溶解（低凹处进入钝态而凸起部位活性溶解）结合溶液光亮剂和阳极极化作用，达到电化学整平抛光的目的。电解抛光过程简介1.首先采用机械抛光打磨设备及工件表面的氧化皮和各种表面缺陷，使被处理表面初步达到一定的粗糙度。2.再用电解的方式进一步提高被处理表面的光洁度。机械抛光是宏观消除表面的氧化皮及各种缺陷，而电解抛光是一个微观整平的过程，进一步提高表面的物化性能。电解抛光的优点1.由于电解抛光具有电化学整平及光亮作用，表面粗糙度值可达Ra0.05（▽12），反射率可达90%以上。因此，可以 防止设备表面挂料、粘壁等现象。2.电解抛光为阳极非均匀溶解过程，且在钝化区进行，因此金属表面可达到良好的钝化效果，且在表面形成均匀致密 的铬盐膜，大大提高了抗环境腐蚀性能。3.电解抛光消除了表面应力集中现象，同时消除了金属表面因研磨而行成的拜尔培层，提高了设备及工件表面的物化性能。电解抛光适用范围由于电解抛光成本高，技术含量高，操作难度大且不易形成自动化，故只用于一些对表面性能要求高的设备及工件（如：生化制药设备、化工聚合反应釜、航空配件、食品、化妆品设备等）。 补充： 电解抛光与化学抛光 电解抛光，是金属零件在特定条件下的阳极侵蚀。这一过程能改善金属表面的微观几何形状，降低金属表面的显微粗糙程度，从而达到使零件表面光亮的目的。电解抛光常用于钢、不锈钢、铝、铜等零件或铜、镍等镀层的装饰性精加工，某些工具的表面精加工，或用于制取高度反光的表面以及用来制造金相试片等。在不少场合下，电解抛光可以用来代替繁重的机械抛光，尤其是形状比较复杂，用机械方法难以加工的零件。但是，电解抛光不能去除或掩饰深划痕、深麻点等表面缺陷，也不能除去金属中的非金属夹杂物。多相合金中，当有一相不易阳极溶解时，将会影响电解抛光的质量。化学抛光，是金属零件在特定条件下的化学浸蚀。在这一浸蚀过程中，金属表面被溶液浸蚀和整平，从而获得了比较光亮的表面。化学抛光可以用于仪器、铝质反光镜的表面精饰，以及其它零件或镀层的装饰性加工。同电解抛光比较，化学抛光的优点是：不需外加电源，可以处理形状更为复杂的零件，生产效率高等，但是化学抛光的表面质量，一般略低于电解抛光，溶液的调整和再生也比较困难，往往抛光过程中会析出氧化氮等有害气体。在电解抛光过程中，阳极表面形成了具有高电阻率的稠性粘膜。这层粘膜在表面的微观凸出部分厚度较小，而在微观凹入处则厚度较大，因此，电流密度的微观分布也是不均匀的。微观凸出部分，电流密度较高，溶解较快，而微观凹入处，电流密度较低，溶解较慢，这样使微观凸出部分尺寸减小较快，微观凹入部分尺寸减小较慢，从而达到平整和光亮的目的。在化学抛光过程中，或由于金属微观表面形成了不均匀的钝化膜；或由于形成了类似电解抛光过程中所形成的稠性粘膜，从而使表面微观凸出部分的溶解速度显著地大于微观凹入部分，因此降低了零件的表面的显微粗糙程度，使零件表面比较光亮和平整。
标签：抛光,电解,原理
